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電(diàn)鍍的鍍液與工藝選擇

發布日期:2020-02-14

 (一)鍍液(yè)選擇 

鍍液與工藝參數的(de)選定,是產品進行電鍍前必要(yào)的工作。鍍液與(yǔ)所用的(de)工藝條件,須由產(chǎn)品的要求來確定。目前(qián)能采用的(de)工藝已經很多,不同的配方和工藝條件可以 很容易地查到。選擇鍍液的配方和配套的工藝,首要的是能針對性地滿足產(chǎn)品的質量要求,其次便是考慮可能得(dé)以實(shí)施的環境和條件。

 產品要求電鍍,一般大多是為了裝飾防護或者增強其功能。無論是何種(zhǒng)目的,所鍍出的鍍層都必須是一(yī)層均勻的完整覆蓋(gài),這是最基(jī)本的要求。如果被鍍件形狀複 雜,或具有小的內孔、凹陷或盲(máng)孔(kǒng),或者材料與表麵很特(tè)殊,電鍍工藝就必須細致研究分(fèn)析(xī)後才確定,以便滿足這些特殊情況。鍍液是否能具(jù)備足夠的宏觀與微觀分 散能力,顯然是必須要(yào)考慮(lǜ)的。

 通常電(diàn)鍍溶液(yè)的配方大體上可以分為兩(liǎng)類。按照電極上離子交(jiāo)換時具備的形態,簡單(dān)的水合離子和加入絡合劑或鼇合劑後生成的較複(fù)雜離子。在(zài)分散能力、電鍍速 度、鍍層結晶(jīng)結構和特性(xìng)等方麵都有明顯差別。如果零件形狀(zhuàng)並不特別複雜,鍍(dù)層也能滿足要求時,宜盡量選用較簡單的鍍液配方。這樣不僅(jǐn)成本(běn)低,易於(yú)控製和管 理,而且更重要(yào)的是汙水也(yě)較(jiào)易治理。

 對於一種實用的電鍍溶液,下列項目須(xū)著重考慮。

 1溶(róng)液的總體(tǐ)濃度

 離子濃度高可以提高容許的極限電流密度。但(dàn)材料的成本也上升。隨之鍍液從槽(cáo)內(nèi)帶出的損耗和引起的(de)汙水處理成本也增加。

  2添加的組分

 鍍液中添加的組分(fèn)不宜太多(duō),否則難於控製和調整,實際上無法保持工藝的穩定。即便是非分解性的組分,也會帶(dài)來分析和調整的困難。組分的壽命也要(yào)考(kǎo)慮,會自 行分解或在電解過程中發生變化、半衰(shuāi)期短的盡量不(bú)用。有些化合物加入後十分有效,但汙水難(nán)於處理(lǐ)的也不宜加入,否則會遇(yù)到環境汙染(rǎn)的限製。有毒物質更要慎 加。

 3溶液的工作溫度

 常溫工作的(de)電鍍溶液當然比較理想,可(kě)以節省設備投資和能源消耗(hào)。但工作溫度區間不宜太窄,否(fǒu)則仍避(bì)免不(bú)了要配備(bèi)加(jiā)溫設施,甚至配備冷卻設備。總體來講,鍍(dù) 液要求加溫並不一定都會提高成本,這要看實際要保持的溫度和相應獲得的好處。綜合的效(xiào)益取決於選擇協調(diào)的(de)工藝。

 4相應的配套工藝(yì)

 一般地說,選用的鍍液要具備較高的(de)操作柔(róu)性。對操作要求苛刻的鍍液並(bìng)非好的鍍液。有些鍍液效果(guǒ)雖好,但對輔助工作要求條件很敏感,必將(jiāng)在生產中窮(qióng)於應付。 鍍液不宜過分地要求工藝配套,或者容許參數範圍過窄,以避免難(nán)於監控和調(diào)整維護。例如要求表麵準備過嚴,便相應要增(zēng)加成本和廢品(pǐn)率。

 5研發與生產

 電鍍在很大(dà)程度上是服務性(xìng)的工藝,而其本身從化學和電化學(xué)角度也是一種較複(fù)雜的工藝係統。電鍍工藝的選擇實際(jì)上還與產品本身的設計(jì)和結構、零件的(de)材料和加 工方法、組件和部件的裝配過(guò)程、產品的貯存(cún)環境和貯(zhù)存期(qī)、使用(yòng)的條件與預期壽命等諸多因素息息相關(guān)。自身的特點還有工藝的穩定性和柔性、與人力(lì)資源和環境 要求(qiú)的協調、材料的供(gòng)應(yīng)和(hé)能源配(pèi)備等等。因此,特別是對於新的(de)工藝研究,必須有中間放大和開發的過程以找出問題,否則不(bú)適應和被動常會發生。

 (二)穩態與介(jiè)穩沉積

 1穩態沉積

 實(shí)現穩態沉積,可以控製恒定電價,也可以控(kòng)製恒定電流。恒電(diàn)位有利於針(zhēn)對極化和析出電位來監控,以便在(zài)一定的沉積電位下控製沉積的離子品種、合金成分、電 流效率等,並可以省去隨著(zhe)生產情況變化而調控電流。但是這種操作須用參比電(diàn)極構成三電極係統,對於大(dà)的設備特別是電流分布(bù)複雜時生(shēng)產實踐不易。恒電流操作 控製相對比較容易,所以在生產上大(dà)多采用(yòng)控製電流(liú)的方法。

 通常習慣按照鍍液的要求,選定適(shì)宜的(de)電流密度及可容許的偏差範圍,給足所需(xū)的電流密度並使之保持穩定。當采用常規(guī)的恒穩直流時,這種操作也比(bǐ)較方便。恒定的電(diàn)流易於直接與(yǔ)法拉第沉積量相聯係。但是在這種情況(kuàng)下,鍍液的狀態對於沉積速度(dù)和質量而言便會是第一位的。

 通常采用的鍍液多為單鹽或加(jiā)入絡合劑來組成(chéng)。常用的單鹽(yán)有硫酸鹽、氯化物、氟硼(péng)酸鹽等,少數(shù)情況也采用氨基磺酸、乙酸、檸檬(méng)酸等複雜一些的酸鹽。許多單鹽傾向於在一級電離中便離解為所需的金屬離子,並以水化形式(shì)存在於溶液內。

 絡合型的鍍液通常是加入(rù)經選擇(zé)的絡合劑或鼇合(hé)劑。例如:氰化物、氨或強(qiáng)堿、焦磷酸鹽(yán)、氨三乙酸’(等,一些有機物也常被(bèi)采用。這些鍍液(yè)往(wǎng)往要經二級電離來提供所需的金屬(shǔ)離子,因而放電過程的單鹽複雜。但是其極化特性和宏觀分(fèn)散能力一般比單鹽要好(hǎo)。

 這兩類鍍(dù)液維持穩(wěn)定沉積的機製並不相同。用簡單鹽類的鍍(dù)液(yè)常依靠遊離的酸(suān)堿來調節離子的活度,或利用同離子效應。)*值的監控對(duì)這種(zhǒng)鍍液也很重要,為此常 須加入緩衝劑。導電劑也是常有的組分,並常有同離子效應的雙重作用。絡合型或加鼇合劑的鍍液須監(jiān)控其反應後的富裕量,即(jí)遊離(lí)的絡合劑濃度以保持反(fǎn)應物的穩 定和(hé)維持絡合平衡,因而操作控製要複雜一些。單鹽(yán)的溶液有時也采用複鹽,而絡合型的鍍液也可能存(cún)在兩種或(huò)更多的絡合物。

 當保持電(diàn)鍍(dù)溶液在恒定的溫度、不加攪拌並且給定恰當的電流密度時,如無其他附加因(yīn)素或場強的影響,電鍍過程(chéng)可以處於相對的定態(tài)。實際上鍍層的質量和沉積的速度(dù)取決於電鍍溶液(yè)和工藝參(cān)數的穩定(dìng)。不適當的擾動將損害電鍍質量。

 各種添加(jiā)劑包括促進細晶、改善分散能力、實現整平提高平(píng)整度以及使鍍層光亮等目(mù)前(qián)品種甚多,專用性較強並目(mù)效果視情況而異。許多具體的產品業已商品(pǐn)化。這 些添加劑大多是依靠在電極界麵上的吸附來起作用(yòng),因而往往是複雜結構的有機物(wù),有時是數種物質(zhì)混配。這些添加劑大體上是通過試驗來(lái)尋覓,目前還沒有統(tǒng)一可 行的理論指導來挑選。

 添加劑有損耗性和無損耗性的兩類,後者僅因鍍件帶出而消耗。電解常使有機物在電極表麵分解,因而添加劑應隨電鍍量的增加而補充。分(fèn)解後的產物是否(fǒu)有害也要 考慮,否則在補充添加劑的同時要定期清理鍍(dù)液。添加劑中有許多也帶(dài)有表麵活性,因此往(wǎng)往利用表(biǎo)麵(miàn)張力的測試來監控。!!!關係也是一(yī)種監控的方(fāng)法。多數情 況下添加劑的消耗量要(yào)通過(guò)研發階段及中間放大過(guò)程來總結。有時在生產中不進行測試而按鍍(dù)槽的實際生產量即安培小(xiǎo)時數來補充添(tiān)加。許多商品(pǐn)添加劑因為希望成(chéng) 分(fèn)保密而建議(yì)采用這種添加方法以避免化驗和監測。鍍(dù)層質量對(duì)添加劑的品種和加入量很敏感,所以要慎重選擇和監控,特別是不知道成分時,否則易(yì)出質量事故。 赫爾槽測試也很有用。

2介穩沉積(jī)

電流密度的(de)大小,在(zài)很大(dà)程度上決定電鍍的速度,所以一般都希望能用較高的電流密度(dù)和寬廣的電流密度容許範圍,這樣便能鍍得較快,並且方便操作。寬廣的電(diàn)流 容許範(fàn)圍有利(lì)於大的和複雜形狀的鍍件取得厚(hòu)度(dù)和結構較(jiào)為均勻的鍍層。與此同時,也希望有較高(gāo)的電流效率和電流效率的穩定性,因為這不僅是鍍速問(wèn)題,也能減 少能耗。

 實踐上的電流密度並不等同於理論電流的極限(xiàn),即在傳質(zhì)控製下使電極界麵處的離子濃度降低到零(líng)。實際生產中要求的是能夠在被鍍零件上鍍出好的鍍層的最高可用 的電流密度。在這裏,工程需要(yào)是主要的考慮。所(suǒ)以(yǐ),在電鍍生(shēng)產實踐中應用的電流密度,或者說(shuō)一般意義上的極限電流密度要比理(lǐ)論值低(dī)很多。高(gāo)於這(zhè)個實用的極(jí) 限一般隻能用於暫時,例如鍍鉻時,短時提高起始電(diàn)流以求獲得較好的覆蓋。

 傳統的提高可用電流密度的方法首推攪拌。對電鍍溶液的攪動,包括機(jī)械或空氣攪拌、連續泵送、運動鍍件等(děng)方(fāng)法,有助於鍍液內的傳質,從而往往可以較大幅度地 提高可用的電流密度。但攪拌必須均勻,否則無法保證產品質量的(de)均勻。同時攪拌也可以使溶(róng)液內的沉渣漂浮,易於導致鍍層變壞。

為了消除單純的攪拌(bàn)所帶來的問題,同時也能在提高鍍(dù)速的(de)同時改善鍍層結構和外觀質量,上個世紀年代興起了周期(qī)換向電流電鍍的方法。通過(guò)短時的將鍍件從陰極 轉為陽極,便使鍍層進入一個溶(róng)解過程。這種方法可以改(gǎi)善鍍層結構,減少氣孔,同時也(yě)有(yǒu)拋光作用而使鍍(dù)層更為光滑(huá)細致。

 通過電流的周期換向和變動以及各種不同攪拌(bàn)的方法,可以看到,對於恒定電流的維持穩態(tài)的(de)沉積時,如果利用不(bú)同場強來施加擾動,便有可能獲得(dé)較好的效益。實際上(shàng)可以施加到電鍍(dù)過(guò)程的種種(zhǒng)擾動,可(kě)以包括電場、力場、磁、熱、聲、光等各個方麵。

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