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鍍(dù)液是由什麽組成(chéng)的
鍍液組成
目前研究(jiū)和使用的三價(jià)鉻電鍍液主要成分如下(xià):
(1)主(zhǔ)鹽(yán):當前三(sān)價鉻鍍(dù)鉻體係主(zhǔ)要有氯化物體係,硫酸鹽體係和(hé)硫酸鹽-氯化物混合體係。
氯(lǜ)化物(wù)鍍(dù)液導(dǎo)電好(hǎo),電壓低,鍍液分散能力、覆蓋能力和電(diàn)流效率較高,但(dàn)陽極(jí)會析出有毒的CL2,且對設備腐蝕(shí)較重;硫(liú)酸鉻電鍍(dù)時陽極(jí)析(xī)出無毒(dú)的氧氣,無汙染,但鍍液導電性不如氯化物(wù),鍍液分散能(néng)力、覆蓋能力和電流效率較低。
(2)絡合劑:通常為羥基(jī)羧酸及其鹽,如(rú)甲酸和乙酸鹽、氨基乙酸、草酸及其鹽,檸檬酸及其鹽,硫氰算眼和酒石酸鹽等。
(3)導電鹽:減少電能的消耗。多為鈉、鉀(jiǎ)、銨的氯化物和硫(liú)酸鹽。
(4)緩衝劑:維持鍍液PH值穩定。多為硼酸、醋酸(suān)鹽、鋁(lǚ)鹽以及檸檬(méng)酸鹽等。
(5)穩定劑:複合(hé)型還原劑,抑製和降低六價鉻的產生。多為甲醇、亞硫酸鈉、鹵化物等。
工藝條(tiáo)件
(1)溫度:最好在室溫下進行,工作溫度一般控製在15~55℃。溫度升高(gāo)會降低濃差極化,並使CR3+的析出點位正移,同時析氫嚴重,不利於鉻的沉積。
(2)PH值為1~4。PH值低時析氫嚴重,陰極電流效率降低,PH值高時易發生羥橋(qiáo)化(huà)反(fǎn)應,鍍層(céng)發暗。
(3)電流密度為3~100A/DM2。陰(yīn)極電流(liú)密度範圍較(jiào)寬,但較低時會影響(xiǎng)鉻沉積速度,陰(yīn)極電(diàn)流密度過高(gāo)會影響到鍍層性能。
(4)電流效率為10%~25%。可以(yǐ)進行輕微攪拌。
另外,三價鉻鍍鉻有單槽方式和雙槽方式(shì),單槽方式中的陽極材料是石(shí)墨棒,與(yǔ)其他普通電鍍一樣;雙槽方式使用了陽極內槽(cáo),可以使用鉛錫合金陽極罩,另外作為陽極基礎液使用了稀硫酸。
三價鉻鍍鉻優點
三價(jià)鉻電鍍具(jù)有下列優點:
(1)毒性低,汙染小。鍍(dù)液清洗水中不含六價鉻,廢水稍加處理(lǐ)即(jí)可排放,且電鍍過程不產生有毒的鉻(gè)酸霧;
(2)鍍液濃度低,隻有六價鉻鍍鉻的(de)1/10,分(fèn)散能力和覆蓋能力好(hǎo),成品率提高(gāo);
(3)電鍍過程不受電流中斷的影響,無需退鍍;
(4)陰極電流效率可達21~25%,高於六價鉻電鍍,提高了生產率。
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